ㅅ | 스퍼터링
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작성자 에이앤씨 작성일17-02-25 16:47 조회306회 댓글0건관련링크
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스퍼터링
sputtering
진공증착법의 일종으로 비교적 낮은 진공도에서 플라스마를 발생시켜 이온화한 아르곤 등의 가스를 가속하여 타깃에 충돌시켜 목적의 원자를 분출, 그 근방에 있는 기판상에 막을 만드는 방법을 말한다. 플라스마의 발생 방법은 여러 가지의 타입이 있다. 막을 형성하는 속도는 작으나, 타깃 뒤 측에 자석을 놓은 마그네트론형 타깃의 개발로 지금까지 사용된 것보다 100배 정도로 크게 되었다. 또, 합금의 스퍼터링에서는 거의 합금의 조성대로 막을 형성할 수 있는 이점이 있다. 반응성 가스를 이용하면 가스와의 반응물의 막 형성(반응 스퍼터링)도 가능하다.
sputtering
진공증착법의 일종으로 비교적 낮은 진공도에서 플라스마를 발생시켜 이온화한 아르곤 등의 가스를 가속하여 타깃에 충돌시켜 목적의 원자를 분출, 그 근방에 있는 기판상에 막을 만드는 방법을 말한다. 플라스마의 발생 방법은 여러 가지의 타입이 있다. 막을 형성하는 속도는 작으나, 타깃 뒤 측에 자석을 놓은 마그네트론형 타깃의 개발로 지금까지 사용된 것보다 100배 정도로 크게 되었다. 또, 합금의 스퍼터링에서는 거의 합금의 조성대로 막을 형성할 수 있는 이점이 있다. 반응성 가스를 이용하면 가스와의 반응물의 막 형성(반응 스퍼터링)도 가능하다.